Yüksek-basınç reaktörü (manyetik yüksek-basınç reaktörü), manyetik tahrik cihazlarının reaksiyon ekipmanına uygulanmasındaki tipik bir yeniliktir. Önceki salmastraların ve mekanik salmastraların üstesinden gelemediği salmastra sızıntısı problemini temel olarak çözerek sıfır sızıntı ve kirlilik sağlar. Üstünlüğünün daha da belirgin olduğu, Çin'deki yüksek-sıcaklık, yüksek-basınçlı kimyasal reaksiyonlar için, özellikle de yanıcı, patlayıcı ve toksik ortamlar içeren kimyasal reaksiyonlar için en ideal cihazdır.
Manyetik tahrik cihazı, yüksek-basınçlı reaktörlerde malzeme karıştırmaya yönelik temel teknolojidir ve 50 bar'ı aşan tasarımlar için temel bir bileşendir. Patentin yayınlanmasının ardından basınçlı karıştırma ekipmanı için endüstri standardı haline geldi.
Manyetik tahrik cihazı, gerçek karıştırma bileşenlerini bir basınç ortamında yalıtır, böylece karıştırma şaftı ile reaktör arasındaki dinamik contanın güvenilirlik sorununu tamamen çözer. Manyetik tahrik cihazının temel üretim malzemelerinin tamamı mükemmel manyetik geçirgenliğe sahip ferromanyetik malzemeler (demir-bazlı alaşımlar, nikel-bazlı alaşımlar) olduğundan, manyetik alan, sızdırmazlık alaşımı katmanından geçerken neredeyse hiç kayıp yaşamaz. Bu nedenle, harici olarak çalıştırılan kalıcı mıknatıs tarafından üretilen dönen manyetik alan, dahili sabit mıknatıslı rotor tarafından etkili bir şekilde alınabilir, böylece reaktör içindeki karıştırma bileşenleri malzemeleri karıştırmak üzere çalıştırılır.
